function start() { document.getElementById("Button1").disabled = true; document.getElementById("Button1").value = 5; window.setTimeout("tick()",1000); } function tick() { var time = new Number(document.getElementById("Button1").value); if(time>0) { document.getElementById("Button1").value = time-1; window.setTimeout("tick()",1000); } else { document.getElementById("Button1").disabled = false; } } function ssClick() { var cx = document.searchform.keys.value; searchform.action ="slist.asp?keys="+cx; }

点此查看多图

无掩模光刻机

无掩模光刻机不需要使用传统的物理掩膜版来转移电路图形，而是通过计算机控制的高精度光束直接在感光材料上进行扫描曝光，形成所需的微细图形。

型号:DMD无掩膜光刻机

品牌:ZEPTOOLS【代理证书】

特点：无掩模光刻机不需要使用传统的物理掩膜版来转移电路图形，而是通过计算机控制的高精度光束直接在感光材料上进行扫描曝光，形成所需的微细图形。

>> 简介
>> 文章
>> 视频

无掩模光刻机简介

产品介绍

无掩模光刻机不需要使用传统的物理掩膜版来转移电路图形，而是通过计算机控制的高精度光束直接在感光材料上进行扫描曝光，形成所需的微细图形。目前在微电子制造、微纳加工、MEMS、LED、生物芯片等领域有广泛的应用。

工作原理

产品特色

▲ 纳米压电位移台拼接技术

▲ 红光引导曝光，所见即所得

▲ OPC修正算法优化图形质量

▲ CCD相机逐场自动聚焦

▲ 灰度匀光技术

技术参数

关键技术指标
紫外光源中心波长	405nm
匀光率	96%
极限分辨率	0.5μm
单写场曝光面积	1.2x0.9 mm2(10x) 2.5x1.9 mm2(5x)
刻写速率	10 mm2/min (10x) 40 mm2/min (5x)

配置	手动型号	标准型号
光源	405 LED	405 LED或汞灯光源
DMD芯片	6500	6500
微镜尺寸	7.56μm	7.56μm
微镜阵列	1920x1080	1920x1080
单写场面积(10x)	1.45x0.81mm	1.45x0.81mm
位移台	手动位移台	电动位移台
离焦控制	手动聚焦	自动聚焦
大面积光刻	手动	自动拼接光刻
套刻	不支持	支持单场/多场套刻
灰度光刻	不支持	支持3D灰度光刻

了解更多无掩模光刻机信息请联系我们。

延伸阅读

暂无相关延伸阅读资料

翁开尔一个创始于1925年的名字，在实验室检测、水性化工方面拥有丰富的经验。我们把世界优秀的仪器设备、化工原材料介绍到中国，把专业的服务提供给用户。我们致力于成为行业的专家，以满足客户全方位的要求。

E-mail: info@hjunkel.com
咨询电话/微信客服: 13202947058

Copyright © 2022.H.J.Unkel All rights reserved.
粤ICP备05045526号
粤公网安备 44060402000069号

在线咨询电话联系

var _hmt = _hmt || []; (function() { var hm = document.createElement("script"); hm.src = "https://hm.baidu.com/hm.js?2411464452ad3a9d5e51c039b84d07d8"; var s = document.getElementsByTagName("script")[0]; s.parentNode.insertBefore(hm, s); })(); window.onscroll=function(){ var t=document.documentElement.scrollTop||document.body.scrollTop; var div2=document.getElementById("div2"); if(t>= 1000){ div2.className = "div2_1"; }else{ div2.className = "div2"; } }