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ZEM台式扫描电镜在芯片微观形貌以及成分分布分析的应用

2025-4-18T15:55:32 阅读量:803

ZEM台式扫描电镜,可为芯片制造提供了全流程检测解决方案。

ZEM台式扫描电镜背散射电子探测器(BSE),清晰呈现晶体管的三维形貌,清晰定位识别栅极氧化层厚度异常及沟道界面缺陷等关键工艺问题。利用ZEM台式扫描电镜的SE二次电子成像探测器,可有效发现铜互连导线中的微孔洞和电迁移微观现象,及时预警电路过载风险。

ZEM台式扫描电镜可结合能谱仪,通过元素分布图谱,定位芯片重金属污染(如铁、镍颗粒)的位置,辅助用户分析硅晶圆制造过程中的工艺污染源。

ZEM台式扫描电镜在芯片制造中的优势

①体积小巧,环境适应性强:由于ZEM台式扫描电镜体积小巧,通常为传统设备的20%,对环境的要求不高,可直接在普通实验室、芯片封装生产线,或移动检测车内使用。

②高效检测:ZEM台式扫描电镜可超快速抽真空,只需移动鼠标,即可完成所需操作,可实现单日处理大量芯片样本的高效检测。

③原位台拓展功能:可集成原位热台模块,实时捕捉芯片高热工况下的形变特征,为长期使用稳定性提供实验依据。这种实时反馈机制形成的"检测-分析-工艺优化"闭环系统,可显著提升了芯片的出厂合格率。

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