半导体行业一直以来都处于技术创新的前沿。在该行业中，涂胶机是光刻前道中一项至关重要的设备，它负责光刻胶的涂覆和显影操作，为光刻机的后续曝光过程提供必要的输入。而在光刻涂胶显影设备技术中存在一个重要难题，即如何确保胶膜的涂覆均匀性。对于众多的设备厂商和研究人员而言，精确供胶是实现胶膜厚度和均匀性高效控制的关键。因此，在涂胶工艺中，准确地供应胶液成为了一个备受关注的问题。
为了满足高精度涂胶的要求，德国彗诺HNPM微量齿轮泵被设计用来稳定供给光刻胶和丙酮等材料。该微量齿轮泵能够实现对供胶量、供胶速度等参数的精确控制，并与可编程控制器配合使用，以实现均匀涂覆的涂胶效果。通过利用回缩效应，该技术能够实现无滴注胶，从而提高涂胶的均匀性和产品的良品率。
德国彗诺HNPM微量齿轮泵以其出色的精确度和稳定可靠性而著称。在芯片涂胶机中，供胶泵扮演着至关重要的角色，用于输送光刻胶、丙酮等液体。
传统泵在处理高粘度或微量液体时的能力有限，并且由于控制精度不足而可能导致泄漏或输送量过少的情况。而德国彗诺HNPM微量齿轮泵能够高效快速地输送广泛粘度和具有腐蚀性的液体，确保光刻胶的准确输送，提高涂胶的质量。该泵的结构紧凑，体积小巧，适应各种安装环境，为涂胶机的设计带来了极大的灵活性。
德国彗诺HNPM微量齿轮泵的两个偏心轮在旋转的时候通过摆线针轮啮合，以保证在任何时候系统都有几个密封的泵室，啮合齿的尺寸比例大致为6/7，可产生6个密封的泵室。
德国彗诺HNPM微量齿轮泵的轴被连接到内部转子，由精确控制的电动马达提供动力。外部转子安装可转动的基座，并通过内部转子驱动。
随着偏心轴转子的转动，进料侧的泵室空间增加，出料侧的泵室空间减小，并且因此产生一个均相和低脉动流量，此时同时也会产生几个相同的泵室，在运转过程中，泵的输送方向是可逆的。
凭借其精确度、稳定性、处理能力和灵活性，在半导体行业中涂胶工艺中发挥越来越重要的作用。它的先进技术和可靠性能使得生产厂商和研究人员能够更好地控制液体输送过程，提高产品质量、生产效率和工艺稳定性。